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晶圆尺寸：300mm（兼容200mm）沉积均匀性：±1%（片内，3σ），±2%（片间）沉积速率：SiO?约500-1000?/min，Si?N?约200-500?/min膜厚控制精度：±0.5%（50?-5μm范围···

采用无灯丝设计的电子回旋共振（ECR）等离子体源，避免钨污染支持B?H?、PH?、AsH?等气态源及固体源（如BF?）等离子体密度>1012 ions/cm3，离子纯度>99.99%五···

静电卡盘（ESC） ：双区温度控制（-20°C~150°C），均匀性±0.5°C气体输送系统：12路质量流量计（MFC），支持特种气体（如NF?、ClF?）终点检测：激光干涉仪+光学发···

气体输送：气源接口：4路工艺气体+2路载气（N?/Ar）MFC精度：±1% FS，流量范围1-1000sccm气体切换阀：气动隔膜阀，响应时间<0.5秒真空系统：真空泵组：机械泵+ roots泵···